由 dawei ASML方面已经表示，将在年底前向中国客户交付部分先进芯片制造装备。这也意味着，我国在光刻机领域的发展将迎来新的突破。
按照ASML的说法，在2023年的剩余时间里，ASML将能继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV型号的产品。我们正在努力实现这一目标，并将其视为我们未来发展的关键战略。
据ASML官网提供的信息，该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款，分别是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。这三款光刻机的最大特点是均采用了双工件台技术，可实现高精度的duv光刻机制造。
ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。